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依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:張高德繞射式深度感測元件之基材熱效應模擬分析

本研究主要利用繞射光學編碼、熱形變模擬及深度計算模型評估在不同材料下，由溫度所引起的深度計算誤差。由於溫度的上升使得繞射元件上的微結構形變，進而造成繞射光點的位移，對應的位移量造成深度計算誤差。由模擬結果可看到熔融石英（Fused silica）在溫度為60度時，其位深度誤差0.007 mm遠低於紅外光相機的成像解析度（0.2 mm），對比壓克力（Acrylic）材料則為0.885 mm，由此可見，在針對高精度的量測需求下，熔融石英材料為基礎的繞射元件，為目前最佳的解決方案。

作者:鄭貴元高階微奈米結構快速製造技術於先進光學元件應用

隨著iPhone SE2仍大力採用結構光3D感測，顯見光學繞射元件(Diffractive Optical Elements, DOE)仍有一定重要性，除此之外，DOE結構應用包括用於擴增實境、混合實境、虛擬實境(AR/ MR/ VR)元件的波導管，以及在車用、消費性電子和商業應用中的先進光學感測元件等。因此如何快速和低成本的製造DOE，已是業界相當關注的事，過去UV型的微結構快速製造技術(奈米壓印)在微奈米結構快速成型上和低成本製造上已經有很好的發展，此次隨著DOE發展再度被關注，本文將介紹結構光學的產業趨勢，並介紹UV型的微結構快速製造技術在DOE應用發展，提供下一世代光學元件和其終端產品提供可用於量產的技術建議。