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依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:王亘黼、董福慶、林士欽、田春林脈衝離散注入法及原子層沉積技術之半導體薄膜製程應用

作者:王亘黼、董福慶、賴識翔原子層沉積多成分薄膜填孔與封裝應用

作者:李建霖、王亘黼、蔡坤諭、錢盛偉、蔡佳勳、董福慶、王慶鈞氦離子束檢測技術簡介及其於高深寬比結構鍍膜製程研發之應用

目前的掃描電子顯微鏡技術存在著一些性能上的限制。在奈米等級結構上，影像解析度通常受限於樣品相互作用的體積，而不是實際的聚焦點大小。使用較高能量電子束或較大質量的粒子束源雖然可以減少散射的影響，但隨之而來的副作用，如更大的樣品相互作用體積及大量分散的粒子源能量使影像解析度仍舊無法提升。近年來，氣體場離子源研究的進展使得以輕惰性氣體離子作為離子源的顯微設備得以實現，有助於奈米等級結構的檢測及相關製程研發。本文將針對氦離子束檢測技術及高深寬比結構鍍膜技術進行介紹。

作者:董福慶、賴識翔、王亘黼長壽命色溫可調變OLED 照明技術

作者:王亘黼、黃智勇電漿薄膜沉積預測與應力分析模組技術

近年來由於人力資源運用以及製造業升級議題，如何導入智慧製造概念，並提高生產品質和效率，已成為製造業關注重點。本文將介紹工研院機械所之電漿薄膜沉積建模分析技術，以機械所開發之電漿鍍膜設備作為測試驗證平台，採用電漿診斷手法，監測製程中射頻電漿源輸入功率、反射功率、以及電漿光譜強度等參數，對應薄膜厚度、成分之關係，建立薄膜沉積預測模型；另透過多重物理耦合技術，生成薄膜表面溫度與壓力分布值，將數值作為應力模型邊界條件，再以實驗資料驗證模擬分析生成曲面擬合法經驗公式，預測薄膜應力及翹曲量，其準確度可達≥ 90 %，滿足電漿薄膜智慧製造之產業應用目標。