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依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:陳冠州、李昇亮LED晶片之光電特性量測設備技術

作者:陳冠州、吳佩珊、李志中、林灣松、陳冠翰LED晶圓取放之模擬與應力分析技術

作者:賴冠甫、閻其偉、劉耀先、黃智勇、陳冠州、梁金興、王慶鈞多孔式噴灑頭對於CVD反應室內之流場影響研究

作者:陳冠州、梁金興、王政元LED光電製程設備之自動取放技術

作者:林義鈞、黃智勇、陳冠州、王慶鈞磊晶製程參數優化系統技術

作者:陳冠州、黃智勇氣體噴灑模組於光電鍍膜設備之應用

作者:林冠宇、莊聰暉、陳冠州、陳家銘、劉志宏IC 載板電漿設備之電極模組設計與軟體開發

因臺灣電路板產業客戶製程規格要求越來高，然而現有IC載板電漿處理設備，因整體電漿均勻度不佳(70~75％)，導致單片良率僅50~70％，片與片之間差異大及製程均勻度不佳(僅50~60％)，除造成整體材料成本提高外，唯有在製程均勻性的重新改善，才能實質提高循環經濟的價值。本文為IC載板電漿設備之電極模組設計與軟體開發，在電極模組設計上，透過特殊的流道設計及針對冷卻水路與氣流場進行分析模擬；在電控規劃設計上，主要包括系統主電源、訊號輸入與輸出、氣體流量、低頻電源、溫度傳感器、電磁閥等電控元件；在軟體開發上，其設備操作模式主要包含手動/自動模式、製程設定、各系統設定、資料查詢、異常紀錄、使用者管理功能等畫面。同時搭配技鼎的製程優化技術，進行高製程均勻性(>85%)的驗證，將有利推動IC載板電漿設備國產化，進而取代現有設備均勻度不佳及維修冗長困難等問題。