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依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:李朱育、張書菡、陳文彥、蔡姓賢偏振干涉術之滾轉角位移量測技術

作者:李朱育、蔡姓賢、蔡岳哲、曹庭豪、朱俊諺單拍偏振干涉法應用於表面輪廓之量測

在精密機械或半導體生產過程中，皆需要精密量測技術的配合，進而確認材料及元件的品質是否符合設計規格。其中，表面形貌是極為重要的品質參數之一。本文提出了一種Fizeau型偏振干涉儀用於表面輪廓量測[1]。該量測系統的組成包括了相位延遲膜、四分之一波片和偏振相機等元件，以實現單拍和光學相位差的即時量測，從而推導出待測物的表面輪廓。另外透過量測晶圓的傾斜和翹曲實驗，證實了即時量測物體表面輪廓的可行性。此量測系統之解析度可達5奈米。