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虛擬展示館

薄膜製程優化模擬器技術（Thin Film Process Optimization Simulator Technology） 2024/10/21

  • 可視化耦合技術：獨特表面化學反應路徑決策技術，精簡化學反應式後，再以真實數據回饋修正。
  • 縮短設備開發時程：耦合出的模型結合巨量資料庫後，獲得建議最佳參數(1週縮短為2小時)。
  • 提高產能與品質：提升鍍膜均勻性。
  • 可導入應用：光電半導體產業（如：LED、半導體、太陽能、無線通信等元件)，應用於鍍膜製程設備上(如：MOCVD、PECVD、PVD）。
  • Multiple Physics Coupling Technology：The unique "Surface Chemical Reaction Pathway Decision-Making Technology" simplifies the chemical equation and obtains real data feedback for correction.
  • Shortening the Equipment Development Timeline：A massive database obtains recommended optimal parameters (2 hours vs. 1 week).
  • Improving Productivity and Quality：Improving deposition uniformity.
  • Industry Applications：Thin film equipment, such as MOCVD、PECVD、PVD, in the Optoelectro nic Semiconductor Industry, such as LED, semiconductor, solar, and wireless communication.
  • 可視化カップリング技術：独自の「表面化学反応パス意思決定技術」は、化学反応式を単純化した後、実際のデータでフィードバックや修正を行う。
  • 装置の開発時間の短縮：カップリングしたモデルを巨大なデータベースに組み合わせ、最適推奨パラメータを得る（ 通常1週間かかるところを2時間に短縮）。
  • 生産能力と品質の向上：コーティングの均一性向上。
  • 適用可能な産業：光電半導体産業（LED、半導体、太陽光発電、無線通信などのコンポーネント）、コーティングプロセス装置（MOCVD、PECVD、PVDなど）に適用される。

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